熱處理溫度對(duì)氧化銦薄膜特性的影響
發(fā)布時(shí)間:2013/9/5 18:07:44
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【熱處理溫度對(duì)氧化銦薄膜特性的影響】
利用離子束濺射沉積的方式在Al2O3陶瓷基片表面制備了In2O3薄膜,并分別研究了熱處理溫度對(duì)薄膜相結(jié)構(gòu)、電阻-溫度特性及氣敏特性的影響。結(jié)果表明:薄膜相結(jié)構(gòu)受熱處理溫度影響顯著,熱處理溫度高于600℃時(shí),薄膜相結(jié)構(gòu)由無定形狀態(tài)變?yōu)榱⒎较酄顟B(tài);隨著熱處理溫度的升高,薄膜電阻率顯著增大;薄膜對(duì)CO氣體具有良好的氣敏特性,熱處理溫度為600℃時(shí),薄膜對(duì)CO氣體靈敏度達(dá)到最大值。
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