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　　【 B-421 BIX小型線性平臺】

普愛納米

　　——面向嚴(yán)苛高科技應(yīng)用的精密穩(wěn)定定位系統(tǒng)

　　現(xiàn)代高科技定位應(yīng)用面臨長期定位穩(wěn)定性、納米級重復(fù)精度、緊湊型設(shè)計、狹小空間靈活配置等核心挑戰(zhàn)。即使是輕微偏差也可能導(dǎo)致功能失效。因此，對分辨率、穩(wěn)定性和集成能力提出了嚴(yán)苛要求。B-421 BIX小型線性平臺專為滿足這些技術(shù)需求而設(shè)計。

　　狹窄空間內(nèi)的高精度

　　采用雙相慣性驅(qū)動的小型線性平臺

　　實現(xiàn)長期穩(wěn)定的納米級精密定位

　　優(yōu)勢概覽

普愛納米

　　出色精度

　　最小位移：10nm

　　穩(wěn)定性

　　自鎖機(jī)構(gòu)可實現(xiàn)長期高穩(wěn)定性定位

　　適應(yīng)性

　　高有效載荷和驅(qū)動力

　　節(jié)省空間，配置靈活

　　緊湊型設(shè)計，易于堆疊，靈活實現(xiàn)多軸組合

　　精密定位

　　高分辨率和重復(fù)精度

　　重要參數(shù)概覽

普愛納米

　　最小位移：10nm

　　尺寸：25×11mm(寬×高)

　　行程范圍：13至33mm

　　分辨率：6nm

　　最大驅(qū)動力：2.5N

　　最大有效載荷：

　　0.5kg(X向運(yùn)動);0.15kg(任意方向)

　　便捷易用的PIMikroMove軟件

　　精確的光束整形與偏轉(zhuǎn)

普愛納米

　　現(xiàn)代高精度系統(tǒng)的成功，尤其依賴于光學(xué)元件的納米級精密穩(wěn)定定位。光束操控的典型需求包括：反射鏡、光闌和透鏡的長期定位，以及可重復(fù)光束偏轉(zhuǎn)的納米級精密對準(zhǔn)。市場亟需結(jié)構(gòu)緊湊并能靈活集成至多軸系統(tǒng)的納米級精密定位方案。這對半導(dǎo)體領(lǐng)域(例如套刻量測)以及顯微領(lǐng)域(例如TIRF和STED等超分辨顯微技術(shù))的光束質(zhì)量控制尤為重要。

　　【應(yīng)用：光束整形與偏轉(zhuǎn) 】

普愛納米

　　光束整形與偏轉(zhuǎn)可精密定制光束，滿足半導(dǎo)體、顯微成像等高技術(shù)應(yīng)用的需求。這些應(yīng)用要求光學(xué)元件具有長期定位能力，并盡可能降低漂移。PI小型線性平臺采用雙相慣性驅(qū)動技術(shù)，提供高推力、高分辨率的精密定位及長期穩(wěn)定性，是嚴(yán)苛工業(yè)應(yīng)用或顯微任務(wù)的理想選擇。其緊湊結(jié)構(gòu)尤其適用于空間受限場景，而易于堆疊的特性則可靈活配置多軸系統(tǒng)，滿足復(fù)雜定位需求。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，光束整形與偏轉(zhuǎn)技術(shù)在晶圓的質(zhì)量控制環(huán)節(jié)尤為重要，例如套刻量測中的光闌精密定位。在顯微技術(shù)領(lǐng)域，它們可實現(xiàn)納米量級的光路精確調(diào)控，為全內(nèi)反射熒光(TIRF)和受激發(fā)射損耗(STED)等現(xiàn)代超分辨顯微技術(shù)提供核心支撐。

　　采用壓電慣性驅(qū)動的線性平臺

　　實現(xiàn)精準(zhǔn)穩(wěn)定的光束操控

　　主要特點

　　最小位移僅10nm，精度出眾

　　自鎖機(jī)構(gòu)可實現(xiàn)長期高穩(wěn)定性定位(無需電源)

　　高分辨率和可重復(fù)性，實現(xiàn)納米級精密定位

　　緊湊型設(shè)計，節(jié)省安裝空間

　　易于堆疊，靈活實現(xiàn)多軸組合

　　B-421 BIX小型線性平臺

　　雙相慣性驅(qū)動技術(shù)

　　最小驅(qū)動力：2.5N

　　行程為13mm、23mm或33mm