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2021年全球光刻機行業(yè)市場現(xiàn)狀與競爭格局分析

時間：2021-09-22

來源：前瞻產業(yè)研究院

導語：光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備，也是光刻膠材料研發(fā)的重要設備，根據晶瑞電材的集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目信息，設備及安裝費占總投資額的69%，而光刻機就占設備及安裝費的44%。

光刻機占高端光刻膠研發(fā)項目的成本份額

2、2020年全球光刻機銷量同比增長16.7%，以中低端產品為主

　　目前，全球光刻機市場的集中度極高，前三大廠商的市場份額占比達90%以上。數據顯示，2015-2020年，全球光刻機銷售量總體增長，2020年達413臺，同比增長16.7%。

全球光刻機TOP3企業(yè)的光刻機銷售量

　　光刻機隨著光刻技術的更迭，已從最初的g-line，i-line歷經KrF、ArF發(fā)展到了如今的EUV。2020年，全球光刻機銷量仍以中低端產品(KrF、i-Line)為主，合計達264臺，占比約65%;而在高端光刻機-EUV的銷量為31臺，占比約19%。

光刻機銷售量結構

3、荷蘭ASML公司占全球光刻機龍頭地位

　　從TOP3企業(yè)的競爭格局來看，2020年，荷蘭ASML公司占比62%，出貨量達到258臺，力壓尼康和佳能：

企業(yè)競爭格局

　　同時，從銷售額來看，由于當前僅有荷蘭ASML公司銷售高端光刻機-EUV(售價最高)，因此，ASML仍占據市場龍頭地位，市場份額達91%。

企業(yè)競爭格局（按銷售額）

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