院士潑來(lái)冷水,與其研發(fā)光刻機(jī),不如專心做低端芯片?

時(shí)間:2021-06-01

來(lái)源:中國(guó)傳動(dòng)網(wǎng)

導(dǎo)語(yǔ):EUV光刻機(jī)屬于全球技術(shù)的集成設(shè)備,配件與技術(shù)供應(yīng)商超過(guò)了5000家,價(jià)值一億多美元卻市場(chǎng)小眾,我們想獨(dú)立完成非常不現(xiàn)實(shí),還不如專心的把55nm這類低端芯片給“做透”。

       作為芯片制造的必須設(shè)備,光刻機(jī)之所以能被譽(yù)為工業(yè)皇冠上的明珠,是因?yàn)樗嘿F、復(fù)雜、精密等多種無(wú)與倫比的特性。全球最先進(jìn)的光刻巨頭是荷蘭的ASML,它是唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的企業(yè),臺(tái)積電、三星所制造的高端芯片都要依賴EUV。

  由于ASML產(chǎn)線上摻雜有不少美國(guó)技術(shù),因此,在出口管制規(guī)則之內(nèi),老美不允許它賣給我們EUV光刻機(jī)。

  在這樣的情況下,我們?nèi)粝雽?shí)現(xiàn)芯片自主,解開(kāi)華為等中企的“芯”困境,光刻技術(shù)設(shè)備就成了必須要跨過(guò)的一道“藩籬”。好消息是,中科院等國(guó)內(nèi)頂尖科研機(jī)構(gòu)已紛紛表態(tài),并成立了專項(xiàng)技術(shù)攻關(guān)小組,誓要實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)的國(guó)產(chǎn)化。

  然而,ASML對(duì)此卻冷嘲熱諷,放出大話:即便給中國(guó)圖紙,他們也造不出EUV光刻機(jī)。

  不僅ASML,就連臺(tái)積電創(chuàng)始人張忠謀也發(fā)出“忠告”:大陸應(yīng)該專注芯片設(shè)計(jì),代工交給臺(tái)積電就可以了,全球沒(méi)有任何一個(gè)國(guó)家能夠建立完整的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈,且還能在競(jìng)爭(zhēng)激烈的市場(chǎng)上保持競(jìng)爭(zhēng)力。

  誠(chéng)然,半導(dǎo)體屬于重資產(chǎn)行業(yè),技術(shù)門檻要求高,各項(xiàng)難度系數(shù)大,不過(guò),ASML和張忠謀所說(shuō)或許都有自己的私心。因?yàn)橐坏┪覀兺黄屏斯饪瘫趬荆瑢?shí)現(xiàn)了芯片的國(guó)產(chǎn)化,那么美系企業(yè)ASML、臺(tái)積電都將被排除在我們的市場(chǎng)之外。

  這顯然是兩家全球性的“頭部”企業(yè)不愿意看到的,畢竟我國(guó)是世界上最大的半導(dǎo)體設(shè)備、芯片消費(fèi)市場(chǎng)。

  雖有不少質(zhì)疑之聲,可我們自主造光刻機(jī)、自主造芯的計(jì)劃絲毫沒(méi)有動(dòng)搖,并且不斷傳來(lái)好消息。

  清華大學(xué)的極紫外光源、上海微電子的國(guó)產(chǎn)28nm光刻機(jī),都表明“再尖端的技術(shù)設(shè)備也是人造的,而非神造的”。另外,刻蝕設(shè)備、離子注入機(jī)、高端光刻膠、EDA軟件等幾乎所有的核心設(shè)備材料也都實(shí)現(xiàn)了國(guó)產(chǎn)化,“中國(guó)芯”的前途一片光明。

  誰(shuí)曾想到,在這關(guān)鍵時(shí)刻,國(guó)內(nèi)院士卻潑來(lái)冷水,在2021年第五屆大數(shù)據(jù)科學(xué)與工程國(guó)際會(huì)議上,中國(guó)工程院士吳漢明表示:EUV光刻機(jī)屬于全球技術(shù)的集成設(shè)備,配件與技術(shù)供應(yīng)商超過(guò)了5000家,價(jià)值一億多美元卻市場(chǎng)小眾,我們想獨(dú)立完成非常不現(xiàn)實(shí),還不如專心的把55nm這類低端芯片給“做透”。

  對(duì)此,許多網(wǎng)友表示不理解:我們自主造芯、自主造光刻機(jī)并非是自不量力,而是被老美斷供,不得不做,如果放棄研發(fā)光刻機(jī),只專注于低端芯片,豈不是正中了對(duì)手的“圈套”?

  事實(shí)也的確如此,如果不研發(fā)高端光刻機(jī),那么華為海思等先進(jìn)的國(guó)產(chǎn)芯片設(shè)計(jì)實(shí)力就沒(méi)有“起舞”的平臺(tái),芯片困局也難以解開(kāi),更關(guān)鍵的是,會(huì)一直被卡著脖子。

  不過(guò),吳漢明教授所說(shuō)的更符合我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)狀,而且“這盆冷水”并不是讓我們放棄對(duì)尖端設(shè)備的研發(fā),而是認(rèn)清現(xiàn)實(shí)、有的放矢的發(fā)展。國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體不能“懸空”,研發(fā)光刻機(jī)很重要,但打好基礎(chǔ)更重要,做好協(xié)調(diào)發(fā)展很關(guān)鍵。

  國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的崛起之路沒(méi)有彎道超車,只有腳踏實(shí)地、按照工藝隔代來(lái)循序漸進(jìn)地追趕。

  此前一直依賴進(jìn)口的我們必須要把基礎(chǔ)打夯實(shí)才行,55nm芯片還沒(méi)“吃透”,就要直奔5nm、3nm的高端芯片,無(wú)異于“還不會(huì)走,就要學(xué)別人跑”,這顯然太不理智了。


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